Зеленоградский «Микрон» изготовил тестовые образцы микросхем, созданных по технологии 65-нм. Вскоре предприятие обещает запустить промышленное производство серийных изделий.

Предприятие «НИИМЭ и Микрон» закончило научные и технологические работы по созданию микросхем по технологии 65-нм. Тестовые образцы таких транзисторов и кольцевых генераторов сошли с конвейера в декабре 2013 г., заявил генеральный директор компании Геннадий Красников.

В апреле 2014 г. «Микрон» планирует выпустить свои первые изделия по новой технологии - память на 16 Мб, говорит Красников: «С одной стороны это достаточно простые изделия, а с другой почти 100 млн транзисторов на кристалле позволяют хорошо оценить процент выхода годных изделий».

В технологическом процессе 65-нм производства «Микрона» используется ультрафиолетовая фотолитография с длиной волны излучений 193 нм, которая применяется для серийного производства 90-нм чипов.

В конце лета 2014 г. Красников намерен предоставить правила проектирования по технологии 65-нм сторонним дизайн-центрам, чтобы те могли формировать свои заказы для “Микрона». “В конце года мы будем готовы организовывать серийное производство как собственных разработок, так и разработок других дизайн-центров», - обещает он.

Для изготовления пластин с микросхемами по новому для предприятия техпроцессу используется та же линия оборудования, на которой уже производятся чипы по технологии 90 нм. Однако, помимо изменения настроек устройств, была докуплена и новая аппаратура.

Переход на новых технологический процесс позволит сократить энергопотребление чипов и их габариты за счет большего числа элементов на единицу площади. 65-нм микросхемы будут изготавливаться на 200 мм пластинах.

В Микроне говорят, что заказчики изделий по технологии 90-нм уже заявили о своем интересе к 65-нм и переносе производства с зарубежных линий.